一、日常維護(hù)要點(diǎn)

1. 電解液管理

· 保持飽和狀態(tài)：電極內(nèi)部需始終充滿飽和硫酸銅溶液，并確保底部有少量未溶解的硫酸銅晶體（避免因水分蒸發(fā)導(dǎo)致濃度下降）。補(bǔ)充溶液時(shí)需使用蒸餾水或去離子水配制，禁止用自來(lái)水（含雜質(zhì)會(huì)污染電解液）。

· 防止干涸與泄漏：使用后及時(shí)檢查外殼密封性，長(zhǎng)期不用時(shí)將電極豎直放置在專(zhuān)用支架上，避免電解液從多孔隔膜（陶瓷塞）滲出；若隔膜堵塞，可用溫水浸泡疏通，但禁止用硬物戳刺。

2. 銅電極保養(yǎng)

· 清潔與活化：新電極或長(zhǎng)期閑置后，需用細(xì)砂紙輕輕打磨銅棒表面，去除氧化層（露出光亮銅面），再浸泡于飽和硫酸銅溶液中 2-4 小時(shí)，使表面形成均勻的硫酸銅結(jié)晶層（活化處理）。

· 防止污染：避免銅電極接觸油污、硫化物或強(qiáng)腐蝕性物質(zhì)（如硫化氫會(huì)導(dǎo)致銅表面生成硫化銅，破壞電勢(shì)穩(wěn)定性），若污染需重新打磨活化。

3. 多孔隔膜維護(hù)

· 保持濕潤(rùn)：隔膜是離子傳導(dǎo)的關(guān)鍵，使用前需確保其充分濕潤(rùn)（可提前浸泡在蒸餾水中），干燥會(huì)導(dǎo)致電阻增大、響應(yīng)變慢。

· 定期清潔：使用后用蒸餾水沖洗隔膜表面，去除附著的土壤、水垢等雜質(zhì)，若有頑固污垢，可用軟毛刷輕刷（避免損傷隔膜孔隙）。

4. 存放規(guī)范

· 短期存放（1 周內(nèi)）：將電極浸泡在飽和硫酸銅溶液中，液面沒(méi)過(guò)銅電極，隔膜朝下放置。

· 長(zhǎng)期存放（超過(guò) 1 周）：倒出部分電解液（保留少量覆蓋銅電極），密封后置于干燥陰涼處，避免陽(yáng)光直射（防止銅電極氧化）。

二、校準(zhǔn)方法（確保電勢(shì)準(zhǔn)確性）

硫酸銅參比電極的校準(zhǔn)需與已知準(zhǔn)確電勢(shì)的標(biāo)準(zhǔn)參比電極對(duì)比，常用標(biāo)準(zhǔn)包括：飽和甘汞電極（SCE，25℃時(shí) + 0.242V vs SHE）、銀 / 氯化銀電極（25℃時(shí) + 0.222V vs SHE）。

1. 校準(zhǔn)步驟

· 準(zhǔn)備工作：將待校準(zhǔn)的硫酸銅電極、標(biāo)準(zhǔn)參比電極、電解質(zhì)溶液（如飽和氯化鉀溶液或現(xiàn)場(chǎng)土壤浸出液）放入同一容器，確保兩電極的隔膜均浸入溶液，且電極間距≥5cm（避免相互干擾）。

· 測(cè)量電勢(shì)差：用高精度萬(wàn)用表（分辨率≥0.1mV）連接兩電極的引線，記錄電勢(shì)差值（穩(wěn)定后讀數(shù)，通常需靜置 5-10 分鐘）。

· 計(jì)算誤差：
硫酸銅電極理論電勢(shì)（25℃）：+0.316V vs SHE
若標(biāo)準(zhǔn)參比電極為 SCE（+0.242V vs SHE），則兩電極理論差值應(yīng)為：0.316 - 0.242 = +0.074V（硫酸銅電極為正）。
若實(shí)際測(cè)量差值與理論值偏差超過(guò) ±5mV，需重新活化電極后再次校準(zhǔn)；若偏差持續(xù)超過(guò) ±10mV，說(shuō)明電極失效，需更換。

2. 溫度校正

溫度變化會(huì)導(dǎo)致電勢(shì)漂移（溫度系數(shù)約 0.0002V/℃），若測(cè)量環(huán)境溫度偏離 25℃，需按以下公式校正：
E(T) = E(25℃) + 0.0002×(T - 25)
（E (T) 為溫度 T 時(shí)的電勢(shì)，單位：V）

三、常見(jiàn)故障及解決

通過(guò)嚴(yán)格的維護(hù)和定期校準(zhǔn)（建議現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用每 3-6 個(gè)月校準(zhǔn) 1 次，實(shí)驗(yàn)室每月 1 次），可確保硫酸銅參比電極在長(zhǎng)期使用中保持穩(wěn)定的電勢(shì)基準(zhǔn)，為電化學(xué)測(cè)量和腐蝕監(jiān)測(cè)提供可靠數(shù)據(jù)。